本實(shí)用新型涉及一種三靶磁控濺射鍍膜機(jī)，屬于磁控濺射真空鍍膜機(jī)設(shè)備，主要用于各種涂層的沉積，特別是太陽(yáng)選擇性吸收涂層的沉積。

    技術(shù)背景柱狀靶磁控濺射鍍膜設(shè)備主要用于較大面積或?qū)挾鹊漠a(chǎn)品的單一或多種金屬材料涂層沉積，特別是用于太陽(yáng)真空管表面選擇性吸收涂層的沉積。目前市場(chǎng)上沉積全玻璃真空太陽(yáng)集熱管中太陽(yáng)選擇性吸收涂層的真空鍍膜設(shè)備主要以濺射Al-N/Al選擇性吸收涂層的單靶磁控濺射鍍膜機(jī)和濺射Cu-SS-Al/N選擇性吸收涂層的三靶鍍膜機(jī)為主。

    單靶鍍膜機(jī)通常是在真空室的中間位置有一個(gè)柱狀靶為濺射中心，可采用磁場(chǎng)旋轉(zhuǎn)靶材不轉(zhuǎn)的圓周濺射方式或靶材旋轉(zhuǎn)而磁場(chǎng)不轉(zhuǎn)的定向?yàn)R射方式，工件通常在靶的周圍對(duì)稱分布，以獲得均勻的涂層。它的優(yōu)點(diǎn)是單靶鍍膜設(shè)備只有一套電源和濺射靶，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單制造成本低，適用于單一金屬或合金涂層的濺射。缺點(diǎn)是由于單靶鍍膜設(shè)備只有一套電源和濺射靶，因此在同一工藝條件下只能進(jìn)行單一金屬或單一合金的濺射，且在固定的工藝條件下，涂層的沉積速率也是固定的，無(wú)法實(shí)現(xiàn)多種金屬或多種合金的共同濺射，可以濺射涂層的種類相對(duì)比較少。

    相對(duì)單靶鍍膜機(jī)來(lái)說(shuō)，多靶鍍膜機(jī)就可以實(shí)現(xiàn)多種金屬或多種合金的共同濺射。目前市場(chǎng)的多靶鍍膜機(jī)有雙靶、三靶、四靶或更多，完全根據(jù)工藝要求來(lái)設(shè)計(jì)。目前用于太陽(yáng)能選擇性吸收涂層濺射的三靶鍍膜機(jī)的圓柱形真空室為三個(gè)柱狀旋轉(zhuǎn)靶以品字形排布為主要特征，實(shí)現(xiàn)同一真空室下的三靶單獨(dú)或共同濺射，每一個(gè)柱狀靶均可采用磁場(chǎng)旋轉(zhuǎn)靶材不轉(zhuǎn)的圓周濺射方式或靶材旋轉(zhuǎn)而磁場(chǎng)不轉(zhuǎn)的定向?yàn)R射方式，可以實(shí)現(xiàn)多金屬膜系的濺射。它的結(jié)構(gòu)示意圖如圖1所示，圖中1是真空室壁，2是柱狀濺射靶，3是屏蔽板，4是極靴，5磁鋼，6是真空室門，有三個(gè)濺射靶，每個(gè)靶的靶材可以相同也可以不同，離真空室門較近處為中線對(duì)稱(或非對(duì)稱)兩根靶，離真空室門較遠(yuǎn)處為一根靶，三根靶呈品字型對(duì)稱(或非對(duì)稱)分布在真空室內(nèi)，這里的屏蔽板為Y形。它的優(yōu)點(diǎn)是可以實(shí)現(xiàn)一種或多種金屬或多種合金的共同濺射，大幅度提高了涂層的沉積速率，減少了工藝時(shí)間，從而有效的提高了生產(chǎn)效率。但這種三靶以品字結(jié)構(gòu)分布有很多缺點(diǎn)，主要缺點(diǎn)為1、對(duì)于三靶磁控濺射鍍膜機(jī)，由于品字排列的磁控濺射靶之間只能采用的Y形屏蔽板進(jìn)行靶間的屏蔽隔離才能保證三靶之間不會(huì)相互污染，于是導(dǎo)致每一根靶的有效濺射區(qū)域?yàn)橐欢ń嵌鹊膯蜗驗(yàn)R射，造成單靶的濺射速率降低，進(jìn)而影響涂層的沉積速率；2、對(duì)于三個(gè)靶中的某一種主要濺射靶材而言，由于品字形結(jié)構(gòu)造成的單面單向?yàn)R射，導(dǎo)致其濺射速率和沉積速率較低，從而也影響了整個(gè)涂層的沉積速率，造成涂層工藝時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，降低了生產(chǎn)效率。3、三靶品字形結(jié)構(gòu)的排布對(duì)靶材消耗程度的測(cè)量和更換也造成很大的困難，如測(cè)量鍍膜室*里面的靶材的消耗程度時(shí)，難度很大，尤其是要更換該靶材時(shí)，由于真空室內(nèi)空間狹小，則需要把前面的兩根靶及屏蔽板全部拆掉才能夠?qū)嵤Ｔ斐稍O(shè)備的維護(hù)復(fù)雜，困難。如果采用是真空室門口一根靶、后邊兩根靶的品字排列結(jié)構(gòu)，同樣會(huì)帶來(lái)觀察及更換靶材時(shí)的不方便，在此不做詳述。

    技術(shù)內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是，設(shè)計(jì)一種三靶磁控濺射鍍膜機(jī)，在功能不變的前提下，提高涂層濺射效率和生產(chǎn)效率，并且易于更換和維修。

    本實(shí)用新型包括真空室、屏蔽板和三根圓柱靶，其特征在于三根圓柱靶呈一字形排列在真空室內(nèi)，并平行于真空室門，相鄰的圓柱靶之間有屏蔽板。

一字形排布的三靶磁控濺射鍍膜設(shè)備主要優(yōu)點(diǎn)有：
   1、在保證輔助濺射靶的有效濺射區(qū)域的條件下，使主濺射靶的濺射區(qū)域*大化，實(shí)現(xiàn)的主濺射靶的定向雙面濺射，在相同的濺射條件下，使主濺射靶的濺射速率增大了一倍，從而使涂層的沉積速率得到了雙倍的增長(zhǎng)，降低了涂層沉積的工藝時(shí)間，提高了生產(chǎn)效率；
   2、有三根濺射靶分布呈平行于真空室門布局，更有利于濺射靶材消耗程度的監(jiān)控與測(cè)量，同時(shí)也更方便了濺射靶的更換和維修。當(dāng)對(duì)其中某一根濺射靶進(jìn)行維修和更換時(shí)，而不需要對(duì)其他兩根濺射靶進(jìn)行拆裝；
   3、對(duì)于每一根濺射靶，都可以根據(jù)需要增減有效濺射區(qū)域的磁場(chǎng)回路，以增加單面的濺射速率，提高沉積速率。

   4、當(dāng)設(shè)備需要采用中頻電源進(jìn)行孿生靶濺射沉積時(shí)，只需要去掉屏蔽板和主濺射靶就可以實(shí)現(xiàn)，從而增大了設(shè)備的功能和通用性。

   5、當(dāng)設(shè)備需一種靶材濺射式，只需要把三根靶都換成相同的靶材就可以進(jìn)行三靶共濺了，從而使涂層的沉積速率得到了增長(zhǎng)，降低了涂層沉積的工藝時(shí)間，提高了生產(chǎn)效率。