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等離子加強化學沉積PECV... 等離子加強化學沉積PECVD鍍膜儀能夠利用高能量等離子體促進反應過程,有效提升反應速度,降低反應溫度,等離子加強化學沉積...
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卷對卷式PECVD 卷對卷式PECVD是等離子增強型化學氣相沉積設備,該卷對卷式PECVD適合用于石墨烯在卷材上的連續(xù)生長
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1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供... 1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供氣高真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計和高真空分子泵租組成。該1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)...
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1200℃單溫區(qū)3路浮子供... 1200℃單溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)TN-O1200-50IT-3F-HV 由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和高真...
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三溫區(qū)三通道CVD混洗系統(tǒng) TN-OTF-1200X-80-3F是一款CE認證的三溫區(qū)管式爐CVD系統(tǒng),其管徑為80mm,采用機械泵,它是由管式爐,...