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偏置靶型單靶磁控鍍膜儀 偏置靶型單靶磁控鍍膜儀配有一個直流電源，可用于金屬及其他導電材料的濺射。偏置靶型單靶磁控鍍膜儀真空系統采用渦輪分子泵組，...
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桌面型行星式單靶磁控鍍膜儀 本設備為桌面型行星式單靶磁控鍍膜儀，腔體下半部為不銹鋼機構，上部為高純石英，兼顧了真空性能和容納復雜樣品臺的功能型。設備...
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桌面型單靶磁控鍍膜儀 本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電...
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傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀 本設備為傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀，樣品臺與靶面的角度可調，可用于制作特定生長角度的薄膜。設備外形為桌面級別，大大減少了...
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桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀 桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀...
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小型單靶磁控直流濺射鍍膜儀 小型單靶磁控直流濺射鍍膜儀是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，該小小型單靶磁控直流濺射鍍膜儀配150W直流電源，可用于金...
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桌面單靶磁控濺射鍍膜儀（鍍... 桌面單靶磁控濺射鍍膜儀（鍍鋁型）?是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，該桌面單靶磁控濺射鍍膜儀（鍍鋁型）?配500W高性...
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小型樣品臺往復單靶磁控鍍膜... 小型樣品臺往復單靶磁控鍍膜儀是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，該小型樣品臺往復單靶磁控鍍膜儀配150W直流電源，可用于...