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本產品為桌面型小型雙源蒸發鍍膜儀，設備安裝有兩套蒸發源，各蒸發源分別供電，可交替開啟也可同時開啟；每個蒸發源可提供*大100A的鍍膜電流，*大蒸發溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍，因此被廣泛用于電極的制備和有機物發光LED的制備。真空腔體采用不不銹鋼制作，配合分子泵組可達到5x10-5Pa極限真空，能夠滿足絕大部分材料蒸發所需的真空環境。兩組蒸發源對稱放置，每個蒸發源均具有單獨的擋板，可保證鍍膜過程中不被污染。
小型雙源蒸發鍍膜儀技術參數：
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產品名稱 |
桌面型雙源蒸發鍍膜儀 |
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產品型號 |
CY-EVP170S-2S-A |
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安裝條件 |
1、使用環境溫度 25℃±15℃，濕度 55%Rh±10%Rh； 2、設備供電：AC220V，50Hz，必須有良好接地； 3、額定功率：2500w； 4、設備用氣：設備腔室內需充注氬氣清洗，需客戶自備氬氣，純 度 ≥99.99%； 5、擺放工作臺尺寸要求 600mm×600mm×700mm，承重 70kg 以上； 6、擺放位置要求通風。 |
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技術參數 |
1、 蒸發源數量：2個，每個蒸發源均配擋板； 2、 蒸發源電壓：10V 3、 蒸發電流 0～100A 連續可調 4、 配 2 個鎢舟、2個鎢絲籃； 5、 不銹鋼旋轉上置樣品臺,直徑為60mm； 6、 樣品與蒸發源的距離為 60～100mm 連續可調； 7、 真空腔體為不銹鋼腔體其外徑為170mm，內徑為160mm，高度為210mm； 8、 真空腔體抽氣接口為 KF40； 9、 進氣接口為 1/4 英寸雙卡套接頭，默認配不銹鋼微調閥以調節進氣量； 10、 顯示屏為7英寸彩色觸摸屏； 11、 可調節蒸發電流，可設置蒸發**電流值、**真空值； 12、 **保護：過流、真空過低自動切斷蒸發電流； 13、 極限真空：5x10-5Pa(搭配分子泵)； 14、 真空測量為電阻規真空計，其量程為：1～105Pa |
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注意事項 |
1、為充分發揮腔體的真空性能，建議搭配分子泵組使用。 |
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可選配件 |
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厚監測儀 |
1、膜厚分辨率：0.0136?（鋁） 2、膜厚準確度：±0.5%，取決于過程條件，特別是傳感器的位置， 材料應力，溫度和密度 3、測量速度：100ms-1s/次，可設置測量范圍：500000?（鋁） 4、標準傳感器晶體：6MHz 5、適用晶片頻率：6MHz 適用晶片尺寸：Φ14mm 安裝法蘭：CF35 |
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其他配件 |
1、 鎢舟、鎢絲籃； 2、 有機蒸發源（含石英舟和鎢絲發熱源） 3、 CY-CZK103系列高性能分子泵組（含復合真空計，測量范圍 10-5Pa~105Pa）； CY-GZK60系列小型分子泵組（含復合真空計，測量范圍10-5Pa~102Pa） VRD-4雙極旋片真空泵； 4、 KF40真空波紋管；長度可選0.5m、1m、1.5m；KF25卡箍支架 5、 膜厚儀晶振片； |
